HAMAMATSU 滨松 C11295 Multipoint NanoGauge

Multipoint NanoGauge 膜厚测量系统 C11295 是一种利用光谱干涉法的薄膜膜厚测量系统。作为半导体制造过程的一部分，它旨在测量薄膜厚度，以及用于对安装在半导体制造设备上的 APC 和薄膜进行质量控制。允许实时进行多通道测量，可在薄膜表面同时进行多通道测量和多点测量。同时，它还可以测量反射率（透射率）、物体色及其随时间的变化。

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特点

可同时执行多达 15 个点的膜厚测定
无参考操作
通过校正光强度波动实现稳定的长期测量
警报和警告功能（通过/失败）
反射率（透射率）和光谱测量
高速度和高精度
实时测量
精确测量起伏不定的薄膜
分析光学常数（n、k）
提供外部控制

详细参数

型号	C11295-XX^*1
可测量的薄膜厚度范围（玻璃）	20 nm 至 100 μm^*2
测量重现性（玻璃）	0.02 nm^{3 4}
测量精度（玻璃）	±0.4%^{4 5}
光源	氙光源 ^*6
测量波长	320 nm 至 1000 nm
光斑尺寸	约 φ1 mm^*4
工作距离	10 mm^*4
可测量层数	最多 10 层
分析	FFT 分析、拟合分析
测量时间	19 ms/point^*7
光纤连接器形状	SMA
测量点数	2 至 15
外部控制功能	以太网
接口	USB 2.0（主机 - 计算机） RS-232C（光源 - 计算机）
电源	AC100 V 至 AC240 V，50 Hz/60 Hz
功耗	2 通道时：大约 350 VA，15 通道时：约 500 VA